1132_半導體製程設備(四機三選 4)
上課期間:從 即日起 到 無限期
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課程介紹

課程安排

  • 1. 半導體晶體與材料特性_自訂教材
  • 2. 晶圓製造_自訂教材
  • 3. 氧化與加熱製程_自訂教材
  • 4. 微影製程_自訂教材
  • 5. 蝕刻製程_自訂教材
  • ch1_導論
  • ch2_積體電路製程介紹
  • ch3_半導體基礎
  • ch4_晶圓製造
  • ch5_加熱製程
  • ch6_微影製程
  • ch7_電漿製程
  • ch8_離子佈植製程
  • ch9_蝕刻製程
  • ch10_化學氣相沉積與介電質薄膜
  • ch11_金屬化製程
  • ch12_化學機械研磨製程
  • ch13_半導體製程整合
  • ch14_IC製程技術
  • ch15_半導體製程發展趨勢和總結
教師 / 

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